Η διαδικασία παλμικής επεξεργασίας λέιζερ Nd: YAG βασίζεται στα χαρακτηριστικά των ελαφρών παλμών που παράγονται από το λέιζερ, με βάση ακτίνες υψηλής έντασης, βραχείς παλμούς.
Φωτοφυσικές αντιδράσεις που προκαλούνται από αλληλεπιδράσεις μεταξύ λέιζερ και μολυσμένων στρωμάτων. Οι φυσικές αρχές του μπορούν να συνοψιστούν ως εξής:
1) Η δέσμη που εκπέμπεται από το λέιζερ απορροφάται από το μολυσμένο στρώμα στην προς επεξεργασία επιφάνεια.
2) Η απορρόφηση μεγάλων μορφών ενέργειας δημιουργεί ένα ταχέως αναπτυσσόμενο πλάσμα (ένα ιονισμένο ασταθές αέριο με υψηλό ιονισμό) που δημιουργεί κύμα κλονισμού.
3) Το κύμα κρούσης προκαλεί τα ρυπαντικά να γίνονται θραύσματα και απορρίπτεται.
4) Το πλάτος παλμού φωτός πρέπει να είναι αρκετά μικρό ώστε να αποφεύγεται η συσσώρευση θερμότητας που θα μπορούσε να προκαλέσει βλάβη στην επιφάνεια που επεξεργάζεται.
5) Τα πειράματα έχουν δείξει ότι όταν υπάρχει ένα οξείδιο στην επιφάνεια του μετάλλου, το πλάσμα δημιουργείται πάνω στην μεταλλική επιφάνεια.
Το πλάσμα παράγεται μόνο όταν η ενεργειακή πυκνότητα είναι πάνω από ένα όριο, το οποίο εξαρτάται από την απομάκρυνση του μολυσμένου ή οξειδωμένου στρώματος. Αυτό το όριο
Το αποτέλεσμα είναι σημαντικό για τον αποτελεσματικό καθαρισμό, διασφαλίζοντας παράλληλα την ασφάλεια του υλικού υποστρώματος. Υπάρχει επίσης ένα δεύτερο όριο για την παρουσία πλάσματος. Αν είναι δυνατόν
Όταν η πυκνότητα ποσότητας υπερβαίνει αυτό το όριο, το υλικό υποστρώματος θα καταστραφεί. Για να εξασφαλιστεί αποτελεσματικός καθαρισμός του υλικού υποστρώματος, πρέπει να βασίζεται σε
Οι παράμετροι λέιζερ ρυθμίζονται έτσι ώστε η ενεργειακή πυκνότητα του φωτεινού παλμού να είναι αυστηρά μεταξύ δύο ορίων.
Κάθε παλμός λέιζερ αφαιρεί ένα ορισμένο πάχος του μολυσμένου στρώματος. Αν το μολυσμένο στρώμα είναι παχύ, απαιτούνται πολλοί παλμοί για καθαρισμό. Στεγνώστε την επιφάνεια
Η ποσότητα παλμού που απαιτείται για το δίχτυ εξαρτάται από τον βαθμό επιφανειακής μόλυνσης. Ένα σημαντικό αποτέλεσμα που παράγεται από τα δύο όρια είναι ο αυτοέλεγχος του καθαρισμού. Υψηλή πυκνότητα ενέργειας
Οι παλμοί φωτός στο πρώτο κατώφλι θα απορρίπτουν πάντοτε τους μολυντές έως ότου φθάσει το υλικό του υποστρώματος. Ωστόσο, επειδή η ενεργειακή του πυκνότητα είναι χαμηλότερη από αυτή του υλικού υποστρώματος
Το κατώφλι καταστρέφεται έτσι ώστε το υπόστρωμα να μην έχει υποστεί ζημιά.
