01 Βελτίωση της ακρίβειας χάραξης
Το υψηλής απόδοσης λέιζερ femtosecond μπορεί να ελέγξει την ακρίβεια χάραξης στην τάξη μεγέθους nm, η οποία είναι 1-2 τάξεις μεγέθους υψηλότερη από αυτή του picosecond. Η ακρίβεια του πλάτους της ακμής ελέγχεται στην τάξη μεγέθους um ή sub-um.
02 Μειωμένες υλικές ζημιές
Η μέγιστη ισχύς του λέιζερ femtosecond είναι υψηλή και η απορρόφηση είναι ισχυρή και η ζώνη που επηρεάζεται από τη θερμότητα χάραξης και το βάθος τήξης είναι μικρότερα σε σύγκριση με αυτά του λέιζερ picosecond, επομένως έχει μικρότερη επίδραση στη χάραξη του υποκείμενου στρώματος και μπορεί σημαντικά μειώστε την υλική ζημιά ή ακόμα και να μην καταλάβετε καμία ζημιά
03 Αποφυγή ζημιάς στο υποκείμενο υλικό
Η χρήση χάραξης με λέιζερ UV picosecond/femtosecond διαφανών στρωμάτων φιλμ μπορεί να αποφύγει τη ζημιά στο υποκείμενο υλικό.
04 Αποτελεσματική εκπλήρωση των απαιτήσεων της διαδικασίας
Μέσω της συνεργασίας διαφορετικών λέιζερ, μπορούμε να εκπληρώσουμε αποτελεσματικά τις απαιτήσεις διεργασίας των μπαταριών BC για την παραγωγή πολύπλοκων μοτίβων διαφόρων στρωμάτων φιλμ.
Για τη διαδικασία της μπαταρίας, η χρήση λέιζερ femtosecond μπορεί να μειώσει τις υλικές ζημιές και να απλοποιήσει τη διαδικασία καθαρισμού, επιτυγχάνοντας έτσι μείωση κόστους και αποτελεσματικότητα. Τα λέιζερ femtosecond υψηλής απόδοσης μπορούν να εξασφαλίσουν καλύτερα την αποτελεσματική μαζική παραγωγή κυττάρων XBC διατηρώντας παράλληλα ταχύτητα επεξεργασίας όχι μικρότερη από picoseconds, με αποτέλεσμα την απόδοση έως και 26-27%.
